دستیابی چین به فناوری تولید انبوه دستگاههای لیتوگرافی بومی
بر اساس گزارش The Information، یک شرکت تحت حمایت دولت در شانگهای تولید انبوه دستگاههای لیتوگرافی غوطهوری (Immersion) DUV را آغاز کرده است. قرار است اولین واحدهای تولیدی در سال جاری به شرکتهای SMIC، Hua Hong Semiconductor و سازنده حافظه CXMT تحویل داده شود.
این شرکت در حال حاضر برای تولید حدود پنج دستگاه در سال 2026 و حدود 20 دستگاه در سال 2027 هدفگذاری کرده است. هر سه شرکت دریافتکننده، در لیست محدودیتهای تجاری ایالات متحده قرار دارند. اگرچه چین همچنان در فناوری لیتوگرافی EUV عقبتر از رقباست و به تأمینکنندگان خارجی قطعات حساس وابسته است، اما این گام بهعنوان یک پیشرفت استراتژیک برای خودکفایی در صنعت نیمههادی این کشور تلقی میشود.