پیشرفت چشمگیر SMIC؛ لیتوگرافی بدون EUV و چگالی خیره‌کننده ترانزیستورها

تحلیل‌های جدید نشان می‌دهد فناوری ساخت N+3 شرکت SMIC بدون استفاده از لیتوگرافی EUV، به چگالی ترانزیستوری فراتر از TSMC N6 دست یافته است.

تتیم تحریریه۲ دقیقه مطالعه۰ بازدید۱۴۰۵/۴/۳۰

مقدمه

صنعت نیمه‌هادی چین گام بزرگی به جلو برداشته است. تحلیل‌های فنی از فناوری نسل سوم 7 نانومتری شرکت SMIC (معروف به N+3) نشان می‌دهد که این شرکت موفق شده بدون دسترسی به ماشین‌آلات لیتوگرافی پیشرفته EUV، به دستاوردهای خارق‌العاده‌ای در زمینه چگالی ترانزیستورها دست یابد.

جزئیات فنی

بر اساس گزارش‌های فنی، فناوری N+3 شرکت SMIC دارای گام فلزی (Metal Pitch) کوچک‌تری نسبت به فناوری 18A اینتل است و چگالی ترانزیستورهای آن از فناوری N6 شرکت TSMC پیشی می‌گیرد. این یک موفقیت مهندسی بزرگ محسوب می‌شود، زیرا دست‌یابی به چنین دقتی بدون استفاده از تکنولوژی EUV که در اختیار شرکت‌های غربی و TSMC است، بسیار دشوار بود. با این حال، باید توجه داشت که با وجود چگالی بالا، این تراشه‌ها هنوز در زمینه کارایی و بهره‌وری انرژی (Efficiency) با نودهای پیشرفته روز دنیا فاصله دارند.

تحلیل و تأثیر

این دستاورد نشان می‌دهد که محدودیت‌های تحریمی در دسترسی به ماشین‌آلات پیشرفته، مانع از نوآوری در مهندسی نیمه‌هادی‌های چین نشده است. اگرچه N+3 ممکن است در شرایط عملیاتی فعلی عملکردی مشابه پرچمداران TSMC ارائه ندهد، اما توانایی SMIC در بهینه‌سازی فرآیندهای تولید نشان‌دهنده مسیر مستقل چین برای خودکفایی در صنعت تراشه‌سازی است.

نتیجه‌گیری

پیشرفت SMIC زنگ خطری برای رقباست. اگر چین بتواند مسیر بهینه‌سازی بدون EUV را ادامه دهد، در آینده نزدیک به وابستگی خود به تأمین‌کنندگان خارجی پایان خواهد داد. این موضوع نه تنها معادلات سیاسی صنعت نیمه‌هادی را تغییر می‌دهد، بلکه بازار سخت‌افزار را با تولیدکننده‌ای جدید و قدرتمند روبرو خواهد کرد.

نظرات۰

برای نوشتن نظر، وارد حساب خود شوید.

ورود / ثبت‌نام

هنوز نظری ثبت نشده — اولین نفری باش که نظر می‌دهد.